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光学镀膜由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。简单的光学薄膜模型是表面光滑、各向同性的均匀介质薄层。在这种情况下，可以用光的干涉理论来研究光学薄膜的光学性质。

光学薄膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割，膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的，可以是透明介质，也可以是光学薄膜


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光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。

光学薄膜是多光束干涉应用的一个实例。用物理或化学的方法涂敷单层或多层透明介质薄膜，可利用薄膜上、下表面干涉相长或相消，使得反射光增强或减弱，来达到增透或者增反的作用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在材料基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。潜水镜防雾处理

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